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饰瓷烧结文献资料
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氧化锆和纯钛基底冠材料及饰瓷烧结对种植全冠适合性的影响
目的：研究氧化锆和纯钛基底冠材料及饰瓷烧结对种植全冠内部和边缘适合性的影响。方法制作计算机辅助设计/计算机辅助制作（CAD/CAM）氧化锆烤瓷种植全冠（A组）和纯钛烤瓷种植全冠（B组）各8个（n=8）。分别用硅橡胶轻体复制饰瓷烧结前基底冠和饰瓷烧结后全冠的内部和边缘间隙，采用Micro-CT扫描硅橡胶，建立三维图像，测量冠边缘垂直间隙（MG）、冠边缘水平间隙（HMD）和冠内部轴面中点间隙（AW）。采用SPSS?17.0软件对测量结果进行统计学分析。结果饰瓷烧结前，A组基底冠MG、HMD和AW均大于B组（P<0.05）。饰瓷烧结后，A组全冠MG小于B组（P<0.05），两组的HMD和AW均无统计学差异（P>0.05）。饰瓷烧结使A组MG减小（P<0.05），使B组MG、HMD和AW均增大（P<0.05），而A组HMD和AW烧结前和烧结后的差异无统计学意义（P>0.05）。结论氧化锆烤瓷种植全冠边缘适合性优于纯钛烤瓷种植全冠；饰瓷烧结对氧化锆和纯钛烤瓷种植全冠适合性均会产生影响。
