您当前的位置:
首页 > 文献资料
所属专业:
四氨基酞菁铜文献资料
-
pH值对聚四氨基酞菁铜膜电化学性质的影响
目的:研究了pH值对聚四氨基酞菁铜(p-CuTAPc)膜电化学性质的影响.方法:用循环伏安法在玻碳电极上制备了p-CuTAPc膜,并用循环伏安法对其在不同酸度下的氧化还原性质进行研究.结果:发现其氧化还原电位与pH值存在线性关系,斜率为-28 mV/pH.结论:质子和氢氧根离子参与了氧化还原反应.
-
酞菁包埋二茂铁聚合膜修饰电极对抗坏血酸的电催化
目的:研究了聚四氨基酞菁铜包埋二茂铁聚合膜修饰电极(PPcFc)的制备和对抗坏血酸的电催化性质.方法:用电聚合法在玻碳电极上制备了PPcFc,并用循环伏安法研究了其对抗坏血酸的催化性质.结果:抗坏血酸在PPcFc修饰的玻碳电极上的氧化电位与裸玻碳电极相比被降低了270 mV.结论:PPcFc修饰玻碳电极对抗坏血酸的氧化有良好的催化作用.