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牙科用镍铬合金表面等离子磁控溅射氮化钛膜的摩擦磨损性能研究
目的:研究等离子磁控反应溅射氮化钛(TiN)膜对镍铬合金表面摩擦磨损性能的影响.方法:利用等离子磁控反应溅射技术,在牙科用镍铬合金表面沉积TiN离子膜,通过电镜观察TiN膜的形貌,并采用摩擦磨损仪测定其摩擦系数和磨损失重量的变化.所得数据采用SPSS11.0软件包进行t检验.结果:TiN膜的表面形貌为细小弥散均匀分布的三棱锥结构.未沉积前,摩擦系数的均值为0.651,沉积TiN膜后为0.525(P<0.05):未沉积前磨损失重量均值为0.0113g,沉积TiN膜后为0.0007g(P<0.05).结论:牙科用镍铬合金表面等离子磁控反应溅射TiN膜后,其耐磨性能有所提高.
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牙科用镍铬合金表面等离子磁控溅射氮化钛膜对镍离子析出的影响
目的:研究等离子磁控反应溅射TiN膜对镍铬合金Ni离子析出的影响.方法:利用等离子磁控反应溅射技术在牙科用镍铬合金表面沉积TiN离子膜,以未溅射前为对照,浸泡于人工唾液中,通过电感偶合等离子体发射光谱-质谱连用仪(ICP-MS)定量检测Ni离子析出量.结果:沉积了TiN膜后的镍铬合金镍离子析出量均数为634.3 ng/ml,而未沉积组Ni离子析出均数为3894.3 ng/mL经t检验两者具有显著的统计学差异(P
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真空镀膜技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度影响的研究
目的 研究一种新的工程学真空镀膜技术--等离子磁控反应溅射技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响.方法 用DA9-4烤瓷支架钴铬合金制成标准金属基片,并在金属基片上瓷前利用等离子磁控反应溅射技术在其表面溅射生成一层Al2O3陶瓷薄膜,对其表面形貌、结构、厚度进行分析;金属基片与VMK95瓷粉烧结形成标准三点弯曲试件,测定其结合强度,观察金瓷界面的形貌及元素分布情况.同时,以未进行溅射镀膜基片作为对照.结果 溅射镀膜组金瓷结合强度为(180.55±16.45)MPa,对照组(143.80±24.49)MPa.经统计学分析,溅射镀膜后的金瓷结合强度明显高于对照组(P＜0.01).结论 等离子磁控反应溅射技术有改善新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的作用.
