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高功率磁控溅射文献资料
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高功率磁控溅射AZ31/Ti-Si-N涂层结构及表面硬度研究
五用高功率磁控溅射( HPPMS)技术在无偏压及室温条件下,采用(Ti,Si10at％)靶在AZ31镁合金基体上制备了Ti-Si-N涂层,在基体与涂层之间插入Ti-Si及TiN层分别作为过渡层及缓冲层,对不同氮气流量下制备的涂层显微结构及纳米硬度进行了研究.实验表明:在AZ31软基体上可制备超硬度Ti-Si-N涂层,随着氮气流量增加膜中N含量增高,涂层颗粒尺寸远小于DCMS电源模式,当氩气氮气流量比为11∶5时TiN( 200)出现择优取向,纳米压痕大硬度值达48 GPa,远高于DCMS涂层硬度(33 GPa).
