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基于电阻抗断层成像的非均匀电导率颅骨物理模型研究
目的 用非均匀电导率分布的颅骨模型进行电阻抗断层成像(EIT)实验,分析颅骨电导率非均匀分布对成像结果的影响.方法 选用石膏材料制作非均匀电导率的颅骨模型,用此模型模拟头颅进行EIT目标成像,并将结果与均匀电导率颅骨模型的成像结果进行比较.结果 相对于均匀电导率模型,在非均匀电导率模型内成像目标更加远离电导率较低一侧,且所在位置边界电压扰动量降低.结论 颅骨模型的电导率非均匀分布对成像定位有明显影响,需要在成像算法上做进一步改进.
