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硅橡胶印模法文献资料
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氧化锆全瓷修复体与氧化锆基台的适合性
背景:近年来,氧化锆基台的研制及临床应用成为众多学者的研究热点,氧化锆基台支持的氧化锆全瓷冠修复以其极佳的美学修复效果被临床医生及患者所认可,而基台与冠之间的适合性大小是种植修复的重要影响因素.目的:研制氧化锆基台并研究其与氧化锆全瓷冠之间的适合性.方法:选用纳米级氧化锆粉,采用注射成型工艺制作氧化锆基台.选取氧化锆基台和0sstem GSⅡ成品钛基台各5个,分为氧化锆基台-氧化锆全瓷冠组和钛基台-钴铬烤瓷冠组两组,氧化锆基台-氧化锆全瓷冠组采用CAD/CAM技术针对氧化锆基台制作氧化锆全瓷冠5个,钛基台-钴铬烤瓷冠组采用基台间隙帽铸造法在钛基台上制作钴铬合金烤瓷冠5个,分别将冠修复体就位与基台上,观察冠是否完全就位.然后采用硅橡胶印模法复制基台与冠之间的微间隙模型,将模型修整剖开,在扫描电镜下观察并采集微间隙图片,使用Digora Optime牙片数字成像软件测量微间隙值.结果与结论:两组冠回位率均为100%.氧化锆基台-氧化锆全瓷冠组的轴面微间隙值和颈部微间隙值均小于钛基台-钴铬烤瓷冠组(P < 0.05),提示氧化锆基台与氧化锆全瓷冠之间适合性良好,可以满足临床应用要求.
关键词： 氧化锆基台 计算机辅助设计及计算机辅助制作 氧化锆全瓷冠 硅橡胶印模法 适合性
