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山药多糖纳米粒的体外抗氧化活性
目的:湿磨法制备山药多糖纳米粒,星点设计优化优处方.研究山药多糖纳米粒的体外抗氧化活性.方法:通过星点设计优化湿磨法制备的山药多糖纳米粒优处方,SALD-2201激光粒度分布仪检测其平均粒径及粒度分布.通过化学实验法和试剂盒法研究过氧化氢、羟自由基、超氧阴离子自由基、DPPH的抗氧化能力,并测定其还原力与金属螯合力.结果:星点设计得优工艺料液比1∶24、球磨转速360 r·mim-1、球磨时间36 h.SALD-2201激光粒度分布仪测定1.0％粒径在186 nm,80.0％粒径575 nm.经体外抗氧化实验证实,过氧化氢、DPPH、还原潜力与金属螯合力的自由基清除率随多糖浓度的增加而成增长趋势.其中山药多糖与其纳米粒对DPPH清除能力在0.5,4,6,8 g·L-1质量浓度下均有极显著差异.超氧阴离子自由基与羟自由基的抗氧化能力亦与多糖浓度成正相关.结论:山药多糖及其纳米粒体外抗氧化活性良好,且山药多糖纳米粒的体外抗氧化活性优于山药多糖.
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不同方法制备羟基喜树碱纳米晶体混悬液的工艺比较与质量评价
目的 本文采用两种技术制备羟基喜树碱纳米晶体混悬液,比较两者工艺差异,并对不同方法制得的纳米晶体混悬液进行质量评价,用以筛选出合适的制备工艺.方法 采用湿磨法和高压均质法制备羟基喜树碱纳米晶体混悬液,比较两者工艺的时间、仪器清洗、易损耗材等,测定两种方法的纳米晶体粒径大小及多分散系数、外观形态,分别对其含量及体外释放度进行质量评价.结果 高压均质法制得的纳米晶体混悬液平均粒径为(350.5±20.6)nm,PDI为(0.19±0.08);湿磨法制得的纳米晶体混悬液平均粒径为(380.2±25.3)nm,PDI为(0.29+0.05).扫描电镜下羟基喜树碱纳米晶体呈长棒状;高压均质法制得的主药含量损失率低于湿磨法.在0.2％ SDS-PBS(pH=7.4)介质中释放速率无显著差异(P＞0.05).结论 本文终采用高压均质法制备羟基喜树碱纳米晶体混悬液,制得的纳米晶体混悬液粒径分布均匀,工艺简单,质量可控,易于实现工艺放大.
