表面粗糙度对烤瓷上釉效果的影响

目的 观察上釉前陶瓷不同的表面粗糙度对其上釉后终表面光洁度的影响.方法 将5组(n=12)烤瓷试件在注水条件下用碳化硅砂纸分别逐级打磨至220#、320#、600#、800#和1200#,常规上釉.上釉前、后分别测量表面粗糙度Ra,扫描电子显微镜定性分析表面形貌.结果 1200#砂纸打磨后上釉获得的表面光滑(Ra=0.19μm),220#砂纸打磨后上釉的试件表面粗糙(Ra=0.55μm),各组陶瓷上釉前后的表面粗糙度差异具有统计学意义(P<0.05);扫描电子显微镜分析结果 与粗糙度仪测试结果 一致.结论 上釉前应对烤瓷表面进行细磨、抛光,以便在上釉后获得尽量光滑的表面.

抛光和自上釉对陶瓷挠曲强度的影响

目的:比较评价抛光和自上釉这两种不同的对陶瓷表面光滑度处理方法.对陶瓷材料的挠曲强度的影响.方法:以Vita VMK体瓷粉制作20个试件,随机分成数目相等的两组,分别进行抛光和自上釉处理.以应力分析仪测度两组试件的挠曲强度,并配以SEM检查两组试件的表面情况.结果:抛光组挠曲强度值为26.25Mpa,自上釉组为20.31Mpa.抛光组明显高于自上釉组并具有显著性差异(P＜0.05).结论:对陶瓷表面的抛光处理可以获得比自上釉相对高的挠曲强度.

不同抛光及上釉方法对牙科陶瓷表面粗糙度的影响

目的 用多个参数评价不同表面粗糙度及上釉方法对陶瓷上釉后表面光洁度的影响,为临床修复体的制作提供可参考的依据.方法 制作盘状烤瓷试件100个,随机分为5组(A、B、C、D、E组),每组各20个,在注水条件下分别用碳化硅砂纸逐级打磨至220#、320#、600#、800#和1200#,各组再随机分为2亚组,每亚组10个,分别进行釉瓷上釉和自身上釉.上釉前、后分别测量表面粗糙度参数轮廓算术平均偏差(Ra)、轮廓的大高度(Rz)、轮廓单元的平均宽度(RSm)以及粗糙度的大峰值(Rp),并用扫描电镜定性分析表面形貌.结果 打磨至220#的陶瓷上釉后表面Ra大[釉瓷上釉为(0.532 ± 0.109)μm、自身上釉(0.552 ± 0.123)μm],打磨至1200#的陶瓷上釉后表面Ra小[釉瓷上釉为(0.201 ± 0.050)μm、自身上釉(0.126 ± 0.016)μm],两种上釉方法都能获得光滑的上釉表面.结论 上釉前的抛光处理以及不同上釉方法对上釉效果产生显著影响.

牙科氧化锆陶瓷表面粗糙度与变形链球菌粘附的实验研究

微生物在修复材料表面的粘附是其发挥致病性的首要步骤.本项研究对牙科氧化锆陶瓷抛光和上釉的表面粗糙度以及变形链球菌在其表面的粘附能力进行比较观察.

口腔陶瓷修复体调磨后表面处理方法研究进展

调磨是口腔陶瓷修复体临床试戴过程的关键步骤,但调磨会造成修复体表面产生微小的划痕,使其表面粗糙度增加,从而可能增加细菌的黏附以及菌斑堆积,诱发牙龈炎和龋病,并且造成对颌牙齿的过度磨耗.因此,口腔陶瓷修复体调磨后,需要对其进行表面处理——上釉或抛光,降低其表面粗糙度,恢复其光滑的表面形态.文章通过检索分析相关文献对口腔陶瓷修复体调磨后表面处理方法及其研究进展进行综述.

不同表面处理对全瓷材料表面粗糙度及表面自由能的影响

目的:比较分析三种不同表面处理方法对全瓷材料表面粗糙度及表面自由能的影响.方法:选用两种氧化锆(LAVA Plus,Wieland)和两种玻璃陶瓷(E.max Press,ELDC),按照生产商的制作方法制作成盘状试件(直径13mm,厚1mm),并将以上四组全瓷材料按照不同的表面处理方式分别分为以下三个亚组:粗磨组(rough grinding)、抛光组(polishing)和上釉组(glazing).利用三维形貌扫描仪测量样本表面的面粗糙度(Sa),表面张力仪测量各组样本表面接触角并计算表面自由能.结果:各组材料粗磨组粗糙度值均显著高于其抛光组及上釉组;对于两种氧化锆陶瓷,抛光组与上釉组间粗糙度值无显著差异(P＞0.05),而对于两种玻璃陶瓷,抛光组的粗糙度值显著低于上釉组(P＜0.05);上釉组表面自由能均显著高于相应粗磨组及抛光组(P＜0.05),粗磨组和抛光组间无显著性差异.结论:抛光和上釉均能显著降低全瓷材料的表面粗糙度,对于氧化锆陶瓷,抛光能达到类似上釉的表面粗糙度,对于玻璃陶瓷,抛光能够获得更加光滑的表面.上釉后全瓷材料的表面自由能显著高于抛光组.

不同处理方式对热压铸造增强陶瓷的双轴弯曲强度影响的研究

目的 研究不同处理方式对白榴石增强陶瓷的双轴弯曲强度的影响.方法 试件的蜡型制作采用将融化的铸造蜡灌注于机械加工模具内,制成厚度和直径一致的蜡型.厚度为2.0 mm、直径为18 mm圆片,共40个.实验分组按照不同处理方式即:打磨和抛光、上釉和离子交换组.以不做打磨、上釉和离子交换的为对照组.根据ASTM标准 F394-78.1991(美国材料实验协会)测试试件的双轴弯曲强度.经one-way ANOVA统计分析各实验组.同时辅以扫描电镜、X线衍射仪和能谱分析观察其结构的变化.结果 不同处理方法与对照组比较双轴弯曲强度,差异有显著性(P＜0.01).不同处理方法组内的比较双轴弯曲强度,差异有显著 (P＜0.01).结论 热压铸陶瓷的不同处理均可以增加陶瓷的双轴弯曲强度,而以离子交换处理的影响大.

抛光与上釉对牙科纳米陶瓷表面粗糙度的影响

目的 比较抛光与上釉对纳米陶瓷表面粗糙度的影响.方法 用纳米陶瓷粉(IMAGINE REFLEX)制备盘状试件40个,随机分为A、B两组.A组抛光组用240#～1500#碳化硅砂纸依次逐级打磨,后用金刚砂抛光膏完成抛光.B组上釉组重新表面上釉.以粗糙度测试仪测试两组试件表面分别经抛光和表面上釉后表面粗糙度值并进行统计学分析,扫描电镜观察和评估样本表面形貌.结果 纳米陶瓷IMAGENE REFLEX抛光组和上釉组表面粗糙度值无显著性差异(P＞0.05);扫描电镜结果显示抛光组和上釉组表面无明显差异,均较为光滑,抛光组表面散在少量细小孔隙.结论 对于纳米陶瓷的表面处理,抛光可以获得和重新上釉相同的表面光滑度.

表面抛光和上釉对Y?TZP全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响

目的 研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响.方法 制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理.测量各组表面粗糙度(Ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量.结果 抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(P<0.01),抛光组和上釉组无统计学差异(P>0.05).被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01).各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01).结论 上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度.抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面.

不同的表面处理对Sirona CEREC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响

目的 比较不同表面处理对Sirona CEREC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响.方法 按照不同的表面处理方式将试件分为7组:对照组(A)、自身上釉组(B)、釉膏上釉组(C)、2组不同松风抛光方案组(D、E),2组不同EVE抛光方案组(F、G),测量试件表面处理后的粗糙度值,体视显微镜定性分析试件表面形貌.结果 各组粗糙度值依次为:A组(0.139±0.010)μ m、B组(0.129±0.006)μm、C组(0.090±0.029) μm、D组(0.145±0.009)μ m、E组(0.101±0.007)μ m、F组(0.172±0.016)μ m、G组(0.278±0.027)μ m;A组与C组、D组与E组、D组与G组、E组与F组、E组与G组及F组与G组之间均有显著性差异(P＜0.05),A组与B组、C组与E组及D组与F组之间均无统计学差异(P＞0.05):体视显微镜分析结果与粗糙度值分析结果一致.结论 釉膏上釉较其它表明处理方式效果好,不同的抛光工具对Sirona CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,其中松风抛光工具抛光效果堪比釉膏上釉的效果.

IPS Empress-2铸瓷修复体短期疗效观察

IPS Empress铸瓷是在高温高压条件下将白榴石增强的玻璃陶瓷注入失蜡法形成的型腔内,形成修复体雏形,再经上釉或着色技术完成修复体.由于IPS Empress铸瓷良好的美观性能,受到越来越多口腔医生的喜爱.我科应用IPS Empress 铸瓷制作前后牙单冠、前牙贴面和后牙(高)嵌体,效果良好.

不同表面处理全解剖式氧化锆全瓷冠磨耗性能的对比研究

目的:评价抛光、上釉、喷砂3种不同表面处理方法对全解剖式氧化锆全瓷冠磨耗性能的影响.方法:使用CAD/CAM系统制作15个全解剖式氧化锆全瓷冠,按抛光、上釉、喷砂不同表面处理方式平均分为3组,在人工唾液环境中与天然牙对磨,实验频率为0.2 Hz,加载力10 N,实验时长为1 h.对比分析每个样本磨耗实验后的体量损失、动态摩擦系数平均值及观察动态摩擦系数变化.结果:三组不同表面处理全解剖式氧化锆全瓷冠磨耗实验后损失质量之间差异有统计学意义(P<0.05).三组副配天然牙磨耗实验后损失质量间差异无统计学意义(P>0.05),抛光组与上釉组、喷砂组摩擦系数间差异均有统计学意义(P<0.05),上釉组与喷砂组摩擦系数间差异则无统计学意义(P>0.05).结论:表面抛光处理比上釉和喷砂处理更利于防止全解剖式氧化锆全瓷冠自身及对颌天然牙的过度磨耗,表面上釉可造成全锆修复体自身及对颌天然牙的过度磨耗,表面喷砂可造成对颌天然牙的过度磨耗.推荐抛光作为全解剖式氧化锆全瓷冠表面处理方式.

抛光及上釉对氧化锆全冠与釉质间磨耗性能的影响

目的 研究抛光、上釉和抛光后上釉对氧化锆全冠与釉质间表面粗糙度和磨耗性能的影响.方法 将氧化锆全冠试件分为抛光组、上釉组和抛光后上釉组,每组各8个试件.釉质组为对照组.将新鲜拔除的上颌第三磨牙近中颊尖作为对颌牙.用表面粗糙度分析这三种处理方法对氧化锆全冠表面粗糙度的影响.通过磨耗试验观察这三种方法处理后的氧化锆全冠表面对釉质的磨耗.结果 表面粗糙度从小到大为抛光氧化锆全冠、抛光后上釉氧化锆全冠、上釉氧化锆全冠和釉质.对于瓷面而言,抛光氧化锆全冠磨耗少;对于对颌釉质而言,抛光组釉质磨耗少.结论 抛光组氧化锆全冠对釉质磨耗小,氧化锆全冠表面粗糙度可帮助诊断其对对颌釉质的磨耗量.

65.喷砂、研磨、抛光及上釉对两种热压铸齿科全瓷修复材料挠曲强度的影响

不同抛光工具对CEREC Blocs陶瓷抛光效果的比较研究

目的 比较临床常用的几种玻璃陶瓷抛光工具对CEREC Blocs陶瓷的抛光效果,为临床抛光工具的选择提供依据.方法 制作60个陶瓷试件,随机分为6组(n=10),进行不同的表面处理.G组:釉膏上釉;SF组:使用松风Porcelain Adjustment Kit+CeraMaster组合抛光;3M组:使用3M Sof-LexTMDiscs套装抛光;Tob组:使用道邦玻璃陶瓷套装抛光;EVE组:使用EVE DIAPRO套装抛光;Ivo组:使用义获嘉伟瓦登特OptraFine?套装抛光.测量各组试件表面粗糙度值Ra、Rz并作统计分析,通过扫描电子显微镜(SEM)观测试件并对其表面形态作定性分析.结果G、3M、SF、Ivo、EVE、Tob组的抛光后Ra值分别为(0.069±0.008)、(0.073±0.009)、(0.223±0.025)、(0.229±0.022)、(0.491±0.093)、(0.763±0.067)μm,经统计学分析,Ra值从小到大依次为G和3M组0.05),其余各组间差异均有统计学意义(P<0.05).Rz值统计结果与Ra值一致.SEM观察结果与粗糙度值的统计结果一致.结论不同抛光工具对CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,本实验条件下,Sof-LexTMDiscs套装抛光表面光滑,效果近似釉膏上釉.

上釉对IPS e.max全瓷修复体颜色及透射率的影响

目的:探讨上釉对IPS e.max全瓷修复体颜色及透射率的影响.方法:将IPS e.max铸瓷材料制作成厚度为2.0mm、直径为15mm的圆盘状试件,测量其颜色及透射率后继续常规上釉、烧结,再次测量其颜色参数及透射率.结果:上釉后IPS e.max 全瓷修复体的a*、b*值增大,L*值、TP值无明显变化,上釉前后的色差ΔE小于1.5,透射率较上釉前有所降低.结论:上釉使IPS e.max全瓷修复体的色调偏向黄红,透射率呈降低趋势.